ALD原子层沉积镀膜设备
一、设备概述: T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。 二、产品优势: 先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。 三
建筑材料或制品单体燃烧试验室
JZDTS40建筑材料或制品单体燃烧试验室适用标准: GB/T20284-2006《建筑材料或制品的单体燃烧试验》配置:1、引风机2、排烟管道(测量区)3、收集器4、集气罩5、护栏6、燃烧室门7、小车8、观察窗9、燃烧室10、微机处理系统11、气体分析仪技术特性: 样品是安装在一个小推车上,其内
箱式电阻炉
炉门专利:采用我公司已获国家专利的自动平行压力炉门,确保炉内高温热气不外漏。专利号:200720028142.4 外观专利:我公司产品外形美观、大方、新颖,受
300°-1400°立式真空气氛管式电炉
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境,应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀(CVD)、镀膜等新材料新工艺领域。
双层玻璃反应釜、高压反应釜、实验室反应釜
烟台松岭SYBF双层玻璃反应釜是一种实验室反应釜,可以耐受一定的压力,故可称为玻璃高压反应釜,本产品具有特点:1.1双层玻璃反应釜具有:①标准化通用互换、②结构布局合理、③操作使用简单方便、④可依工艺变化自行增减零部件、⑤采用特殊密封结构,密封效果好,使用寿